薄膜晶體管液晶顯示器（Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD），近幾年在手機、電腦、電視、平板等行業廣泛應用。TFT-LCD生產工藝流程主要包括陣列（Array）、彩膜（Color Filter，CF）、成盒（Cell）、模塊（Module）四部分。Array、CF、Cell是排放氣體污染物的主要環節，目前TFT-LCD行業廢氣污染物排放采用《大氣污染物排放標準》（GB 16297—1996）和《惡臭污染物排放標準》（GB 14554—1993），而這兩個標準都已發布20多年，已嚴重滯后。2018年生態環境部發布了《電子工業污染排放標準》第二次征求意見稿[2]，對TFT-LCD行業各項污染物的排放值進行了規定，相比于目前所采用的標準，廢氣中的污染物排放值要嚴格數倍不等，對于適應了近20年的低標準運行的TFT-LCD行業來說是一次挑戰。目前TFT-LCD廢氣處置研究文獻較少，本文對某TFT-LCD企業廢氣處置現狀進行研究，分析TFT-LCD行業目前廢氣處置技術所排放的污染物濃度與新標準之間的差距，為迎接新標準做好準備。

1 背景介紹

1.1 行業發展現狀一直以來，全球液晶面板產業由三星、LG、夏普、友達、奇美五大巨頭控制，近年來，顯示行業在智能手機、平板電腦等消費類電子產品的推動下，產業規模持續擴大，國內液晶面板行業抓住機遇，突破技術封鎖，快速發展，并且從TFT-LCD調整產能投向OLED（有機發光二極管，Organic Light-Emitting Diode）。2010年，國內顯示面板產線（量產+在建+規劃）共21條，而截至2018年10月統計，中國內地已建和在建的TFT-LCD和OLED產線共有51條，共20家企業（見表1），總投資額達到12332億元人民幣。另外還有維信諾和群顯規劃建設OLED產線2條，華銳光電規劃建設TFT-LCD產線1條。

1.2 工藝簡介

Array生產車間負責陣列基板的生產，包括玻璃基板清洗、化學氣相沉積、濺射、光刻、刻蝕、剝離等工序。Array工藝使用外購的專用玻璃基板，充分清洗后在其清潔干凈的表面上通過化學氣相沉積（CVD）的方法形成半導體膜或絕緣膜，通過濺射鍍膜的方法形成金屬膜。然后對柵電極及引線、有源層孤島、源漏電極及引線、接觸過孔、像素電極，經光刻膠涂敷、光刻膠曝光、顯影等光刻工藝并經濕法刻蝕、干法刻蝕后，剝離掉多余的光刻膠，經熱處理把半導體特性作均一化處理后即做成陣列玻璃基板。Array工藝中使用大量的化學品和特氣，產生大量VOCs和廢氣，是整個生產過程中污染物的重要來源。CF是TFT-LCD的重要組成部分，CF的質量直接影響TFT-LCD性能。CF基本結構是由玻璃基板（Glass Substrate）、黑色矩陣（Black Matrix）、彩色層（Color Layer）、保護層（Over Coat）及ITO導電膜組成。Cell生產車間負責制屏工序，即負責配向膜（PI）涂敷、固化、摩擦、封框膠及導通材涂布、液晶滴下、紫外及熱固化、切割、磨邊、測試等各工序的生產。Module車間負責模塊的生產，包括偏光片貼敷、TCP焊接、PCB焊接、焊接檢查、老化、返修、自動包裝等工序。

2?廢氣排放

對某TFT-LCD工廠進行研究，根據各生產環節，所產生的廢氣主要有酸性廢氣、堿性廢氣、有毒廢氣、有機廢氣以及一般工業排氣，詳細記錄見表2。

3 處置結果及討論

根據表2，將TFT-LCD排放的廢氣分為酸、堿、有毒、有機共四個系統。

3.1 酸、堿性廢氣處置結果

酸、堿性廢氣處理系統（見圖1）是通過添加化學品到各洗滌塔中，通過噴淋水泵進行循環，利用填料增加廢氣與循環液的接觸面積，達到酸堿中和，實現廢氣達標排放。堿排洗滌塔，通過添加50%H2SO4去除氨等主要堿性廢氣，氨的去除效率可達90%以上。酸排洗滌塔，通過添加30%NaOH、12%Na2S及10%的NaClO2去除酸性廢氣。該系統氮氧化物的總去除效率可達65%、氯化氫的總去除效率可達90%、硫酸的總去除效率可達94%、硝酸的總去除效率可達94%、磷酸總去除率可達99%酸、堿性廢氣噴淋洗滌塔的溶液循環使用并定期排放，全部納入廢水處理站含氟廢水處理系統進行處理。對酸排中的氮氧化物、氯化氫、硫酸霧以及堿排口中的氨進行檢測（表3是檢測值），堿排放口中氨的12個檢測數據中，9次未檢測出氨，檢測值中，最大值2.7mg/m3，最小值0.7mg/m3。酸、堿性廢氣處置后排放值可以滿足《大氣污染物排放標準》（GB 16297—1996）中表2的二級標準和《惡臭污染物排放標準》（GB14554—1993）中表2的標準要求。

3.2 有毒廢氣處置結果

有毒廢氣主要來自化學氣相沉積（CVD）和干法刻蝕（DE）等工序中使用SiH4、NH3、PH3、NF3、SF6、N2O、Cl2等特殊氣體，除部分在工藝中反應消耗外，少量以尾氣的形式排放，主要污染物為氯氣、氨氣、氯化氫、氟化物、氮氧化物等。毒排廢氣采用電除塵+酸堿中和的形式（見圖2），各項指標都有90%以上的去除率，能夠使廢氣中的污染物達標排放。對處置后煙氣中的氮氧化物、氟化物、氨、氯氣、氯化氫進行檢測（見表4），各污染物排放值均達到《大氣污染物排放標準》（GB 16297—1996）中表2的二級標準和《惡臭污染物排放標準》（GB 14554—1993）中表2的標準要求。

3.3 有機廢氣處置結果

有機廢氣來源于Array的掩膜光刻、光刻膠剝離工序，CF/Cell/Module工程的涂膠、RGB再生以及設備的擦試等。Array有機廢氣的主要成分為丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）、乙酸丁酯和乙醇胺等；CF有機廢氣的主要成分為丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）、丙二醇單甲醚（PGME）、3-乙氧基丙酸乙酯（EEP）、環己酮等有機物；Cell有機廢氣的主要成分為N-甲基吡咯烷酮（NMP）、丙酮等，而這些污染物最大的特點是濃度值低，對人體有一定的危害性[7]。有機廢氣處理主要通過沸石轉輪，將大風量低濃度有機廢氣進行吸附后排放，通過高倍數濃縮再生成小風量高濃度氣體，送入燃燒爐中焚化燃燒，處理效率為95%，最終達到去除有機物的目的。圖3是有機廢氣處置后排放的非甲烷總烴的排放值，均滿足《大氣污染物排放標準》（GB 16297—1996）中表2的二級標準。

3.4 討論

2018年3月生態環境部發布了《電子工業污染排放標準》第二次征求意見稿，對顯示器件行業中污染物的排放指標做了嚴格的規定，氮氧化物：100mg/m3、氯化氫：15mg/ m3、硫酸霧：10mg/ m3、氟化物：5mg/ m3、氯氣：5mg/ m3、氨：30mg/ m3、非甲烷總烴：100mg/ m3。相比于《大氣污染物排放標準》（GB 16297—1996），各項指標的排放值更加嚴格。如果按征求意見稿中的排放值，從表3、表4中可得知，酸排中氮氧化物6月、7月檢測為113mg/ m3和148mg/ m3，毒排2月氮氧化物排放值為122mg/ m3，1月和12月氯氣的檢測值分別為10.8和11mg/m3。相對于征求意見中新標準限值，氮氧化物和氯氣都有超標。這對于TFT-LCD行業廢氣中污染物的排放提出了更高的要求。征求意見稿還對顯示器件行業新增了污染因子排放指標（磷化氫1mg / m3和砷化氫1mg / m3）以及有機特征污染物（三氯乙烯1mg/ m3、苯4mg/ m3、甲醛5mg/m3、甲苯25mg/ m3、二甲苯40mg/ m3）。但這些指標目前TFT-LCD行業研究幾乎是空白。為了迎接即將發布的新標準，TFT-LCD行業的污染處理設施，勢必要進行提標改造。

4 結論

（1）TFT-LCD行業廢氣中主要排放的污染物來源于Array車間，其次是CF和Cell車間，主要通過酸、堿性廢氣處理系統，有毒廢氣處理系統和有機廢氣處理系統進行處置。

（2）TFT-LCD行業廢氣排放的污染物滿足《大氣污染物排放標準》（GB 16297—1996）和《惡臭污染物排放標準》（GB 14554—1993）的要求，但氮氧化物和氯氣，偶爾排放值偏高，需要提標改造，以滿足即將發布的《電子工業污染排放標準》。

（3）《電子工業污染排放標準》新增一些廢氣排放污染物，如三氯乙烯、磷化氫、砷化氫、苯、甲醛、甲苯、二甲苯等，而這些污染因素在TFT-LCD行業研究中缺乏，是今后研究工作的重點。